※ XPS 분석프로그램인 AVANTAGE를 학생들이 직접 사용할 수 있도록 XPS실에 설치하였습
습니다. 연구실에 Fitting프로그램이 없는 경우, 간단한 프로그램 사용법을 교육받은 후 직접 사용하실 수 있습니다.
사용시간 : 오전9시-오후6시(점심시간 제외)

※ 예약 날짜 및 시간 : 시료를 맡기로 센터에 오는 시간 또는 택배 도착일을 선택하시면 됩니다.

※ 홈페이지에서 예약시 기타입력란에 보고자하는 원소의 종류, 시료의 특성, 데이터받으실 이메일주소 등 자세하게 써주시기 바랍니다.

1. 분석 절차

담당자와 통화 후 일정 확인 → 광전자분광기(XPS) 선택 후 예약하기 → 시료 도착 → 예약 승인 → 시료 도착 순서대로 실험 진행 → 데이터 발송 → 실험완료 → 결제

2. 분석 내용

1) Surface : 시료 표면으로부터 10 nm 이내의 정성, 정량 분석하는 실험
2) Depth Profile : 시료 표면 측정과 Ar sputtering을 반복하여 시료 표면부터 깊이, 분포를 분석하는 실험
3) AR-XPS : 각도를 바꿔가며 일반적으로 5 nm 이하의 초박막 시료의 상대적인 조성 및 분포를 얻을 수 있는 실험(비파괴 두께측정)

3) 시료 준비
- 파우더, 박막, 필름 등 시료는 반드시 초고진공에 적합하게 완전히 건조된 상태여야 함.
- 가루가 날리거나 진공이 잡히지 않는 시료는 측정 불가
- 용매에 있던 시료는 반드시 진공오븐에서 건조 후 측정 의뢰
- 시료사이즈 : 5 mm X 5 mm ~ 10 mm X 10 mm, height < 15 mm

X-선 광전자 분광법은 광원으로 X-선을 사용하여 내부 전자로부터 광전자(Photoelecton)를 방출시켜 광전자의 운동에너지를 측정함으로써 원소의 화학적 이동(chemical shift)의 차이를 이용하여 표면의 구성 원소의 화학 결합 상태를 알아낼 수 있는 분석 장비임


응용분야
- 시료 표면의 정성, 정량 분석
- 반도체 표상 및 성분 분석
- 금속재료 표면 산화상태, 부식 상태 등 구조 해석
- 고분자 복합 재료 연구 등

※ 외부기관(교외기업, 연구소, 대학 등)의 경우, 2016년 9월 1일부터 부가세 10%가 별도로 부과됩니다.